目录
1 光刻设备：半导体制造的核心装备 . 8
1.1 光刻：决定芯片性能最关键工艺 . 9
1.2 光刻图谱：多种路线并存，扫描式光刻为主流 . 13
1.2.1 接触/接近式光刻机（Aligner）：光刻设备鼻祖 . 14
1.2.2 扫描投影/重复步进光刻机（Stepper）：仍满足大线宽工艺 15
1.2.3 步进扫描光刻机（Scanner）：主流光刻设备通用 . 16
1.3 各项革新推向光刻性能巅峰 . 16
1.4 电子束、纳米压印：潜在的另辟蹊径 . 20
2 光刻机：多种先进系统的精准组合 . 21
2.1 光刻机的整体结构 . 21
2.2 光源系统：光刻机的能量源泉 . 22
2.3 照明与物镜投影系统：精准成像 . 26
2.4 工件台系统：光刻产能与精确对准的关键 . 30
3 光刻设备市场规模大，国产亟待零的突破 . 33
3.1 芯片制程升级，光刻设备成本占比不断提升 . 33
3.2 ASML 拥有近乎垄断市场地位 35
3.3 ASML 的发展历程 36
3.4 聚焦成熟制程，光刻设备国产化亟待发力 . 39
4 投资建议：整机尚需时日，配套设备与零件先行 . 43
4.1 苏大维格：发力非IC 光刻机与多种光学元件 43
4.2 茂莱光学：供应多种前道光刻机零件 . 47
4.3 芯源微：光刻机配套显影涂胶设备先行者 . 48
4.4 精测电子：光刻涂胶显影后电路量测设备 . 48
4.5 盛美上海：开发显影涂胶设备，扩大产品工艺覆盖 . 49
4.6 美埃科技：有力保证光刻净化环境 . 50
4.7 福晶科技：激光晶体打入ASML 供应链 . 50
4.8 炬光科技：光刻机电子及光学元件供应商 . 51
5 风险提示 . 52
图表目录
图31. 光刻机的结构 . 21
图32. 高压汞灯的光谱分布 . 22
图33. 高压汞灯的结构 . 22
图34. 单腔DUV 激光产生的原理 22
图35. ArF 光源系统（DUV） . 22
图36. GIGAPHOTON 的ArF 光源内部结构 23
图37. 光源内置的测量模块 . 24
图38. EUV 设备庞大的前驱激光装置 24
图39. 光刻机中的EUV 光产生装置 24
图40. EUV 光源工作原理图 25
图41. 光刻机照明与投影物镜系统的工作流程图 . 26
图42. 光刻机照明与投影物镜系统结构 . 26
图43. 光刻设备采用不同的照明方式 . 27
图44. 像素化照明方式的成像效果 . 27
图45. 光刻计算优化的掩膜版的成像效果 . 28
图46. DUV 光刻机的照明系统 28
图47. DUV 光刻机的物镜系统 28
图48. 光刻中的波前畸变 . 29
图49. 通过镜片形变补偿像差原理图 . 29
图50. 通过局部加热补偿像差原理图 . 29
图51. EUV 反射镜片 30
图52. EUV 光刻机的照明与物镜系统 30
图53. 工件台工作流程图 . 30
图54. ASML 的双工件台 . 30
图55. ASML 新型机台产能不断提高 . 31
图56. 掩膜与晶圆上的对准图形 . 31
图57. 配合工件台的对准传感器 . 32
图58. 掩膜与工件台及晶圆的对准原理图 . 32
图59. 晶圆表面的3D 形貌图 32
图60. 全球半导体资本开支（十亿美元） . 33
图61. 光刻设备占比最高 . 33
图62. 全球光刻机市场规模（亿美元） . 33
图63. 全球显影涂胶设备市场规模（亿美元） . 33
图64. ASML 公司EUV 与非EUV 设备收入占比 . 34
图65. ASML 公司各类光刻机出货量变化（台） . 34
图66. 不同工艺制程的光刻机开支占比 . 34
图67. 光刻机市场的竞争格局 . 35
图68. 光刻机TOP3 出货量变动情况 35
图69. 2021 年TOP3 光刻机出货量（单位：台） . 35
图70. ASML 全球生产研发布局图 . 36
图71. ASML 历年营收规模（单位：百万欧元） . 36
图72. ASML 发展历史 . 37
图73. ASML 生态圈 . 39
图74. 中国光刻机发展历程 . 40
图75. 上海微电子发展历程 . 40
图76. 600 系列光刻机 集成电路前道制造 . 41
图77. 500 系列光刻机 —— IC 后道先进封装 41
图78. 300 系列光刻机 集成电路前道制造 . 42
图79. 200 系列面板光刻机 . 42
图80. 中国光刻机相关技术 . 43
图81. 苏大维格产品与技术布局 . 44
图82. 苏大维格的各类光刻设备 . 44
图83. 苏大维格的光学产品 . 45
图84. 苏大维格各类产品营收情况（单位：亿元） . 45
图85. AR-HUD 46
图86. 苏大维格光波导镜片 . 46
图87. 光伏铜电镀技术以铜代银 . 46
图88. 芯源微显影涂胶（喷胶）设备 . 48
图89. 精测电子可用于光刻工艺检测测量的产品 . 49
图90. ArF 工艺涂胶显影Track 设备ULTRA LITH 产品图 49
图91. 美埃科技产品结构 . 50
图92. 上海微电子的高洁净度环境 . 50
图93. 福晶科技发展历程 . 51
图94. 福晶科技产品 . 51
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